AS ISO 17560:2006
表面化學(xué)分析．次級(jí)離子質(zhì)譜測(cè)量法．硅中注入硼的深度分布分析法

Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth profiling of boron in silicon

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)

AS ISO 17560:2006

發(fā)布

2006年

發(fā)布單位

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)

當(dāng)前最新

AS ISO 17560:2006

 

 

適用范圍

采用 ISO 17560:2002 規(guī)定了二次離子質(zhì)譜方法，使用扇形磁質(zhì)譜儀或四極桿質(zhì)譜儀對(duì)硅中的硼進(jìn)行深度分析，并使用觸針輪廓測(cè)量法或光學(xué)干涉測(cè)量法進(jìn)行深度標(biāo)度校準(zhǔn)。

專題

AS ISO 17560:2006相似標(biāo)準(zhǔn)