JIS K 0143:2000
表面化學(xué)分析.次級離子質(zhì)譜法.利用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
2023-02
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- JIS K 0143:2000
- 發(fā)布
- 2000年
- 發(fā)布單位
- 日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會
- 替代標(biāo)準(zhǔn)
- JIS K 0143:2023
- 當(dāng)前最新
- JIS K 0143:2023
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用注入硼制備的經(jīng)過認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn)的均勻摻雜樣品測定單晶硅中硼原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。該方法用于測定濃度范圍為1 x 10 原子/cm 至1 x 10 原子/cm 的均勻添加的硼的濃度。
JIS K 0143:2000相似標(biāo)準(zhǔn)
JIS K 0143:2023 表面化學(xué)分析-二次離子質(zhì)譜-使用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
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09/30153670 DC BS ISO 14237 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜法 用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
BS ISO 14237:2010 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜.用均勻摻雜物質(zhì)測定硅中硼的原子濃度
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