GB/T 22462-2008
鋼表面納米、亞微米尺度薄膜.元素深度分布的定量測(cè)定.輝光放電原子發(fā)射光譜法
Nano,Sub-micron scale film on steel.Quantitative depth profile analysis.Glow discharge atomic emission spectrometry
GBT22462-2008, GB22462-2008
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- GB/T 22462-2008
- 別名
- GBT22462-2008, GB22462-2008
- 發(fā)布
- 2008年
- 總頁(yè)數(shù)
- 16頁(yè)
- 發(fā)布單位
- 國(guó)家質(zhì)檢總局
- 當(dāng)前最新
- GB/T 22462-2008
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 19502 GB/T 20066 GB/T 22461-2008 GB/T 6379.1 GB/T 6379.2 ISO 5725-3 ISO 6955:1982
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)采用輝光放電原子發(fā)射光譜法用于定量測(cè)定鋼表面納米、亞微米尺度薄膜（金屬鍍膜和氧化膜）中膜厚、鍍層質(zhì)量（單位面積）和薄膜中的元素深度分布。 本方法適用于測(cè)定3nm~1000nm厚度的鋼表面薄膜，適用的元素包括：鐵、鉻、鎳、銅、鈦、錳、鋁、碳、磷、氧、氮和硅。
| 術(shù)語(yǔ) | 描述 |
|---|---|
| 輝光放電 Glow Discharge | 一種通過(guò)直流或射頻電源激勵(lì)產(chǎn)生輝光的放電現(xiàn)象，用于原子化樣品表面元素 |
| 發(fā)射強(qiáng)度 Emission Intensity | 指在輝光放電過(guò)程中，待測(cè)元素原子發(fā)出的特征譜線的強(qiáng)度，與元素濃度相關(guān) |
| 濺射速率 Sputter Rate | 指在輝光放電過(guò)程中，樣品表面被濺射去除的速度，通常以單位時(shí)間內(nèi)的深度或質(zhì)量表示 |
GB/T 22462-2008 中提到的儀器設(shè)備
| Grimm型輝光放電原子發(fā)射光譜儀 配備適合分析元素的譜線通道，陽(yáng)極內(nèi)徑尺寸為2 mm-8 mm | 用于定量測(cè)定鋼表面薄膜中元素含量的專用設(shè)備，具有數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)記錄發(fā)射強(qiáng)度與時(shí)間關(guān)系 |