Настоящий стандарт распространяется на скрытокристаллический графит и кристаллический графит, полученный при раздельном или совместном
? ?真空分析質譜計的一般要求為： ?、賰x器探頭尺寸小、質量輕、易于安裝； ?、趯τ诖牌D型儀器和擺線型儀器來說，儀器的雜散磁場必須很?。弧 、蹆x器探頭應具有互換性，成本低，允許一機可配用數(shù)個探頭； ?、芴筋^能經(jīng)受400℃烘烤，離子源能用電子轟擊除氣，以減小“記憶效應”： ?、輧x器的質量標度最好為...
滴定分析也分為常量和微量分析。如果是常量，特別是對物質純度的檢測，相對誤差就來求得非常嚴格，0.1%我認為都不高。而對于微量分析，相對誤差的要求就寬松一些，0.5%就能滿足分析要求，甚至1%也行。這主要取決于分析的樣品與目的...
一般防護的防護要求應該是穿防護服，然后戴手套帶護目鏡...
(1)試樣應分解完全，處理后的溶液不應殘留原試樣的細悄或粉末； (2)試樣分解過程待測成分不應有揮發(fā)損失； (3)分解過程不應引入被測組分和干擾物質...
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