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NF T20-474:1973
工業(yè)用磷酸.二氧化硅含量的測定.使用還原鉬硅絡(luò)合物的分光光度法

Phosphoric acid for industrial use. Determination of silica content. Spectrophotometric method using the reduced silicomolybdic complex.

作廢

NF T20-474:1973 發(fā)布?xì)v史

NF T20-474:1973由法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會 FR-AFNOR 發(fā)布于 1973-12-01，并于 1973-11-22 實(shí)施。

NF T20-474:1973 在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中歸屬于: G11 無機(jī)酸、堿，在國際標(biāo)準(zhǔn)分類中歸屬于: 71.060.30 酸。

NF T20-474:1973 工業(yè)用磷酸.二氧化硅含量的測定.使用還原鉬硅絡(luò)合物的分光光度法的最新版本是哪一版？

最新版本是 NF T20-474:1973 。

NF T20-474:1973的歷代版本如下：

1973年 NF T20-474:1973 工業(yè)用磷酸.二氧化硅含量的測定.使用還原鉬硅絡(luò)合物的分光光度法

標(biāo)準(zhǔn)號: NF T20-474:1973
發(fā)布: 1973年
發(fā)布單位: 法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會
當(dāng)前最新: NF T20-474:1973

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