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x射線光電子和俄歇電子
本專題涉及x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)有12條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子和俄歇電子涉及到分析化學(xué)、長度和角度測量。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子和俄歇電子涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、化學(xué)。
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度
- BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度尺度的線性
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測定方法
國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
- ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法
韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性
未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度
美國材料與試驗(yàn)協(xié)會，關(guān)于x射線光電子和俄歇電子的標(biāo)準(zhǔn)
- ASTM E1217-11 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程
- ASTM E1217-00 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范
- ASTM E1217-05 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范
