ISO 19694-7:2024
固定源排放
Stationary source emissions
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- ISO 19694-7:2024
- 發(fā)布
- 2024年
- 總頁數(shù)
- 48頁
- 發(fā)布單位
- 國際標(biāo)準(zhǔn)化組織
- 當(dāng)前最新
- ISO 19694-7:2024
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 14064-1:2018 ISO 19694-1:2021 ISO/IEC Guide 98-3:2008
- 適用范圍
- 本文件提供了計算半導(dǎo)體和顯示器行業(yè)溫室氣體 (GHG) 排放量的方法。本文件包括半導(dǎo)體設(shè)備、微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS)、光伏 (PV) 設(shè)備和顯示器的制造。本文件允許報告各種目的和不同基礎(chǔ)上的 GHG 排放量，例如按工廠、按公司（按國家或地區(qū)）或按國際集團(tuán)。本文件涉及以下所有直接和間接溫室氣體來源： — 來自公司擁有或控制的來源的直接溫室氣體排放[定義見 ISO 14064-1:2018, 5.2.4 a)]，例如來自以下來源的排放： — 工藝：蝕刻和晶圓清洗（EWC）、遠(yuǎn)程等離子清洗（RPC）、原位等離子清洗（IPC）、原位熱清洗（ITC）、N2O 薄膜沉積（TFD）和其他使用 N2O 的工藝中使用的氟化合物（FC）氣體和一氧化二氮（N2O）； — 與設(shè)備和現(xiàn)場車輛、房間供暖/制冷有關(guān)的燃料燃燒； — 用于現(xiàn)場發(fā)電的燃料的燃料燃燒； — 組織消耗的進(jìn)口電力、熱能或蒸汽發(fā)電產(chǎn)生的間接溫室氣體排放[定義見 ISO 14064-1:2018, 5.2.4 b)]。其他間接溫室氣體排放[定義見 ISO 14064-1:2018, 5.2.4 c) 至 f)]是組織活動的結(jié)果，但來自其他組織擁有或控制的溫室氣體源，因此不在本文件范圍內(nèi)。
| 術(shù)語 | 描述 |
|---|---|
| 基線年特定的 base year specific | 用于比較溫室氣體排放的歷史時期，可以基于特定時間段或多個時間段平均計算。 |
| 二氧化碳當(dāng)量 carbon dioxide equivalent | 通過溫室氣體的質(zhì)量乘以其全球變暖潛勢來計算的單位，用于比較不同溫室氣體的輻射強(qiáng)迫效應(yīng)。 |
| 化學(xué)氣相沉積 chemical vapour deposition | 一種制造前體的過程，通過反應(yīng)氣體和蒸汽在基板表面產(chǎn)生沉積。 |
| 溫室氣體排放因子 greenhouse gas emission factor | 將溫室氣體活動數(shù)據(jù)與溫室氣體排放量聯(lián)系起來的系數(shù)。 |
ISO 19694-7:2024 中提到的儀器設(shè)備
| 化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD-1000 | 用于在半導(dǎo)體制造中生成薄膜。 |
| 刻蝕機(jī) EtchPro 500 | 用于去除基底材料表面物質(zhì)的設(shè)備。 |
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