ISO 14237:2010
表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜.用均勻摻雜物質(zhì)測定硅中硼的原子濃度
Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- ISO 14237:2010
- 發(fā)布
- 2010年
- 總頁數(shù)
- 26頁
- 發(fā)布單位
- 國際標(biāo)準(zhǔn)化組織
- 當(dāng)前最新
- ISO 14237:2010
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 17560 ISO 18114
- 適用范圍
- 本國際標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用均勻摻雜材料測定單晶硅中硼原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法，該方法由經(jīng)認(rèn)證的硼注入?yún)⒖疾牧闲?zhǔn)。 該方法適用于濃度范圍為1×1016原子/cm3至1×1020原子/cm3的均勻摻雜硼。
ISO 14237:2010 中可能用到的儀器設(shè)備
專題
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