GJB 5404.2-2005
高溫合金痕量元素分析方法 第2部分:氫化物發(fā)生 原子熒光光譜法測定鉍含量
Analysis methods for trace elements in super alloys. Part 2: Determination of bismuth content by hydride generation-atomic fluorescence spectrometric method
GJB 5404.2-2005 中，可能用到以下儀器設(shè)備
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- GJB 5404.2-2005
- 發(fā)布
- 2005年
- 發(fā)布單位
- 國家軍用標(biāo)準(zhǔn)-國防科工委
- 當(dāng)前最新
- GJB 5404.2-2005
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 222
本部分規(guī)定了用氫化物發(fā)生-原子熒光光譜法測定鉍含量的原理、試劑、儀器、分析步驟、結(jié)果計(jì)算及允許差。 本部分適用于鎳基高溫合金中鉍含量的測定。 測定范圍：0.00005%～0.0030%。