GJB 5404.2-2005
高溫合金痕量元素分析方法 第2部分:氫化物發(fā)生 原子熒光光譜法測(cè)定鉍含量

Analysis methods for trace elements in super alloys. Part 2: Determination of bismuth content by hydride generation-atomic fluorescence spectrometric method

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)

GJB 5404.2-2005

發(fā)布

2005年

發(fā)布單位

國(guó)家軍用標(biāo)準(zhǔn)-國(guó)防科工委

當(dāng)前最新

GJB 5404.2-2005

 

 

引用標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 222

適用范圍

本部分規(guī)定了用氫化物發(fā)生-原子熒光光譜法測(cè)定鉍含量的原理、試劑、儀器、分析步驟、結(jié)果計(jì)算及允許差。 本部分適用于鎳基高溫合金中鉍含量的測(cè)定。 測(cè)定范圍：0.00005%～0.0030%。

GJB 5404.2-2005 中可能用到的儀器設(shè)備

專題

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