GB/T 20176-2006
表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜.用均勻摻雜物質(zhì)測定硅中硼的原子濃度
Surface chemical analysis.Secondary-ion mass spectrometry.Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
GBT20176-2006, GB20176-2006
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- GB/T 20176-2006
- 別名
- GBT20176-2006, GB20176-2006
- 發(fā)布
- 2006年
- 總頁數(shù)
- 20頁
- 采用標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 14237:2000 IDT
- 發(fā)布單位
- 國家質(zhì)檢總局
- 當(dāng)前最新
- GB/T 20176-2006
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 5725-2:1994
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)說明了用標(biāo)定的均勻摻雜物質(zhì)（用注入硼的參考物質(zhì)校準(zhǔn)）確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。它適用于均勻摻雜硼濃度范圍從1×1016atoms/cm3～1×1020atoms/cm3。
| 術(shù)語 | 描述 |
|---|---|
| 二次離子質(zhì)譜法 Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) | 一種用于表面和深度分析的技術(shù)，通過二次離子檢測來確定元素濃度和同位素比。 |
| 參考物質(zhì) Reference Material | 經(jīng)過標(biāo)定的材料，用于校準(zhǔn)和驗證測量方法的準(zhǔn)確性。 |
GB/T 20176-2006 中提到的儀器設(shè)備
| 二次離子質(zhì)譜儀 未指定 | 用于檢測樣品表面和深度的硼原子濃度的高靈敏度分析儀器。 |
| 肖特基結(jié)系統(tǒng) 未指定 | 用于測量硅片載流子濃度的電子器件。 |
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專題
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