SEMI F63-0701-2001
半導(dǎo)體加工用超純水指南
Guidelines for Ultrapure Water Used in Semiconductor Processing
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- SEMI F63-0701-2001
- 發(fā)布
- 2001年
- 總頁數(shù)
- 3頁
- 發(fā)布單位
- /
- 當(dāng)前最新
- SEMI F63-0701-2001
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- SEMI F61
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)為半導(dǎo)體制造用超純水系統(tǒng)提供性能指導(dǎo)，涉及設(shè)備采購基準(zhǔn)、工藝控制參數(shù)設(shè)定及水質(zhì)預(yù)期建立。適用于晶圓清洗等濕法工藝環(huán)節(jié)，隨著制程線寬縮小對水質(zhì)要求可能提高。明確不包含安全規(guī)范要求，使用前需自行評估安全健康實踐。
其他標(biāo)準(zhǔn)
ASTM F316-03 用起泡點和氣孔平均流量法測定膜過濾器孔隙尺寸特點的標(biāo)準(zhǔn)試驗方法
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ASTM A262-15(2021) 奧氏體不銹鋼晶間腐蝕敏感性檢測的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
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VDE 0354-8-11-2018 Magnetic materials - Part 8-11: Specifications for individual materials - Fe-based amorphous strip delivered in the semi-processed state (IEC 60404-8-11:2018); German version EN IEC 60404-8-11:2018
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ASTM D5127-13(2018) 電子和半導(dǎo)體行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)指南
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