ASTM D5127-12
電子學(xué)和半導(dǎo)體工業(yè)用超純水的標(biāo)準(zhǔn)指南

Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries

被代替

標(biāo)準(zhǔn)號

ASTM D5127-12

發(fā)布

2012年

總頁數(shù)

6頁

發(fā)布單位

美國材料與試驗(yàn)協(xié)會

替代標(biāo)準(zhǔn)

ASTM D5127-13

當(dāng)前最新

ASTM D5127-13(2018)

 

 

適用范圍

本指南推薦了電子和微電子行業(yè)所需的水質(zhì)。需要高純度水來防止制造過程中的產(chǎn)品污染，因?yàn)槲廴緯?dǎo)致電子設(shè)備的產(chǎn)量不可接受、產(chǎn)量低。水純度的范圍是根據(jù)制造工藝確定的。超純水的類型是根據(jù)設(shè)備線寬來定義的。在所有情況下，水質(zhì)建議均適用于分配點(diǎn)。雜質(zhì)的限制與當(dāng)前的污染規(guī)格和可用的分析方法（在合適的潔凈實(shí)驗(yàn)室或通過在線儀器進(jìn)行）有關(guān)。根據(jù)當(dāng)前行業(yè)慣例采用在線和離線方法。可能需要測量表 1 中所示水平的樣品濃度。 表 1 電子和半導(dǎo)體工業(yè)分配點(diǎn)的水要求 A 參數(shù)類型 E-1 類型 E-1.1 類型 E-1.2B 類型 E-1.3 BType E-2Type E-3Type E-4 線寬（微米）1.0–0.50.35–0.250.18–0.090.065–0.0325.0–1.0>5.0 電阻率, 25&# x00B0;C（在線）18.118.218.218.216.5120.5 TOC (μg/L)（在線為 <10 ppb）5211503001000 在線溶解氧 (μg/ L)2510310 蒸發(fā)后在線殘留物 (μg/L)10.50.1

ASTM D5127-12 中可能用到的儀器設(shè)備

專題

ASTM D5127-12相似標(biāo)準(zhǔn)

誰引用了ASTM D5127-12 更多引用